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龍圖騰網(wǎng)恭喜長江存儲科技有限責(zé)任公司申請的專利一種套刻偏差的確定方法及系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114927503B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-30發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210518381.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L23/544；該發(fā)明授權(quán)一種套刻偏差的確定方法及系統(tǒng)是由郭芳芳;陸聰;李偉;盧紹祥;軒攀登設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-01-02向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種套刻偏差的確定方法及系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本申請實施例公開了一種套刻偏差的確定方法及系統(tǒng)，其中，所述方法包括：在對每一層晶圓進(jìn)行光刻工藝的過程中，在光罩圖案上的每個晶粒內(nèi)，沿著單元陣列區(qū)域的邊線的中部設(shè)置套刻標(biāo)記；在進(jìn)行套刻對準(zhǔn)操作時，通過測量設(shè)備對當(dāng)前層的套刻標(biāo)記與所述當(dāng)前層的前一層的套刻標(biāo)記進(jìn)行量測，確定所述當(dāng)前層與所述前一層的套刻偏差。

本發(fā)明授權(quán)一種套刻偏差的確定方法及系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體器件，其特征在于，包括多個單元陣列區(qū)域，圍繞所述單元陣列區(qū)域具有邊線，沿著各所述單元陣列區(qū)域的邊線設(shè)置有套刻標(biāo)記；其中，所述半導(dǎo)體器件包括晶粒，所述晶粒包括多個所述單元陣列區(qū)域；所述多個套刻標(biāo)記設(shè)置在各單元陣列區(qū)域的邊線的中部；相鄰的兩個所述單元陣列區(qū)域存在鄰近的兩條邊線；所述鄰近的兩條邊線中的一條邊線設(shè)置有所述套刻標(biāo)記。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人長江存儲科技有限責(zé)任公司，其通訊地址為：430074 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)未來三路88號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。