恭喜力晶積成電子制造股份有限公司林維昱獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜力晶積成電子制造股份有限公司申請的專利電容集成結(jié)構(gòu)、電容單元及其制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN114864819B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-30發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202110170859.7,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10D1/68;該發(fā)明授權(quán)電容集成結(jié)構(gòu)、電容單元及其制造方法是由林維昱;葉國裕設(shè)計研發(fā)完成,并于2021-02-08向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本電容集成結(jié)構(gòu)、電容單元及其制造方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開一種電容集成結(jié)構(gòu)、電容單元及其制造方法,其中,該電容單元的制造方法包括在具有絕緣層的基板上形成多個電容堆疊結(jié)構(gòu),針對形成于相鄰兩個電容堆疊結(jié)構(gòu)之間的絕緣間隔部執(zhí)行第一切割工藝,以形成外露各電容堆疊結(jié)構(gòu)的第一導(dǎo)電部分和第二導(dǎo)電部分的多個凹槽;利用金屬材料填充各凹槽,以形成與第一導(dǎo)電部分、第二導(dǎo)電部分電連接的多個金屬間隔部;再針對各金屬間隔部執(zhí)行第二切割工藝以形成獨(dú)立的多個電容單元,且于各電容單元的相對兩側(cè)分別形成金屬側(cè)壁,而構(gòu)成具有兩端電極的電容單元。由此,不需在電容單元中的各電容堆疊結(jié)構(gòu)中,額外增設(shè)電連接各層導(dǎo)電部分的電性導(dǎo)接孔結(jié)構(gòu),而可以簡化電容單元內(nèi)部各層導(dǎo)電部分的電連接制作工藝。
本發(fā)明授權(quán)電容集成結(jié)構(gòu)、電容單元及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種電容單元的制造方法,包括:提供基板;形成絕緣層于該基板上;形成多個電容堆疊結(jié)構(gòu)于該絕緣層上,在相鄰兩個該電容堆疊結(jié)構(gòu)之間形成有一絕緣間隔部,且各該電容堆疊結(jié)構(gòu)各自具有第一焊墊、第一導(dǎo)電部分、第二焊墊和第二導(dǎo)電部分;針對各該絕緣間隔部執(zhí)行第一切割工藝,以形成外露各該電容堆疊結(jié)構(gòu)的該第一導(dǎo)電部分和該第二導(dǎo)電部分的多個凹槽;利用金屬材料填充各該凹槽,以形成與該第一導(dǎo)電部分、該第二導(dǎo)電部分電連接的多個金屬間隔部;針對各該金屬間隔部執(zhí)行第二切割工藝以形成獨(dú)立的多個電容單元,且于各該電容單元的相對兩側(cè)分別形成第一金屬側(cè)壁和第二金屬側(cè)壁;其中,在各該電容單元中,該第一焊墊通過該第一金屬側(cè)壁與該第一導(dǎo)電部分電連接而構(gòu)成第一電極,該第二焊墊通過該第二金屬側(cè)壁與該第二導(dǎo)電部分電連接而構(gòu)成第二電極。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人力晶積成電子制造股份有限公司,其通訊地址為:中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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