恭喜瑞聲開泰科技(武漢)有限公司;瑞聲聲學科技(深圳)有限公司程詩陽獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜瑞聲開泰科技(武漢)有限公司;瑞聲聲學科技(深圳)有限公司申請的專利揚聲器及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113938803B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111145119.4，技術領域涉及：H04R9/06；該發明授權揚聲器及其制備方法是由程詩陽;但強;周一葦;沈宇;李楊設計研發完成，并于2021-09-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本揚聲器及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種揚聲器的制備方法，以及由該制備方法得到的揚聲器。其中，揚聲器包括具有收容腔的底座以及收容于所述收容腔內的振動發聲組件，所述振動發聲組件包括跨接在所述底座內側壁的傳動振膜、疊設在所述傳動振膜的第一振膜、以及疊設在所述傳動振膜以驅動所述傳動振膜和所述第一振膜振動發聲的驅動器；所述傳動振膜與所述第一振膜的剛度不同。本發明的揚聲器架構實現了將驅動結構和位移結構的深度解耦，驅動器只負責產生面內應力，自身不發生面外翹曲，使揚聲器的振動極大程度的擺脫驅動器自身性能的影響，很容易獲得全頻段高水平的聲壓輸出。
本發明授權揚聲器及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種揚聲器的制備方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：提供SOI晶圓，對所述SOI晶圓的頂層硅膜進行刻蝕，以形成第一振膜；在所述第一振膜和所述SOI晶圓的埋氧層上形成底電極；在所述底電極上形成壓電薄膜；在所述壓電薄膜上形成頂電極；分別對所述底電極、所述壓電薄膜以及所述頂電極進行刻蝕，以形成驅動器；在所述第一振膜、所述驅動器以及所述埋氧層上沉積高聚物，以形成傳動振膜，所述傳動振膜與所述第一振膜的剛度不同；對所述SOI晶圓的底層硅膜進行空腔刻蝕，以使所述埋氧層部分暴露于所述空腔；釋放暴露于所述空腔中的埋氧層，以形成所述揚聲器。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人瑞聲開泰科技(武漢)有限公司;瑞聲聲學科技(深圳)有限公司，其通訊地址為：430200 湖北省武漢市光谷三路777號武漢東湖綜合保稅區A塔樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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