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龍圖騰網恭喜上海華力微電子有限公司申請的專利版圖的局部圖形密度分析方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114820498B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210420874.7，技術領域涉及：G06T7/00；該發明授權版圖的局部圖形密度分析方法是由程瑋;朱忠華;魏芳設計研發完成，并于2022-04-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本版圖的局部圖形密度分析方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種版圖的局部圖形密度分析方法，包括：將版圖中的若干個柵極根據溝道尺寸的不同分為m類；將每一類柵極劃分為n個檢查組，設置每個檢查組的步進數和不平衡系數；根據步進數、不平衡系數和溝道尺寸設置每個檢查組對應的測試區域的檢查窗口的尺寸；根據步進數設置每個檢查組對應的測試區域的圖形密度的管控規格；對每個檢查組對應的測試區域按照檢查窗口的尺寸分為多個塊，計算每個塊的圖形密度，根據管控規格判斷每個塊的圖形密度是否合格。根據不同類柵極不同檢查組得到不同的檢查窗口和管控規格的方式，靈活地計算版圖上不同地方的柵極的圖形密度，從而得到更準確的局部圖形密度。

本發明授權版圖的局部圖形密度分析方法在權利要求書中公布了：1.一種版圖的局部圖形密度分析方法，用于分析版圖中若干個柵極周圍的圖形的圖形密度，所述柵極均具有測試區域，其特征在于，包括：將版圖中的若干個柵極根據溝道尺寸的不同分為m類，其中，m為正整數；將每一類所述柵極劃分為n個檢查組，并且設置每個所述檢查組的步進數和不平衡系數，其中，n為正整數；根據所述步進數、不平衡系數和溝道尺寸設置每個所述檢查組對應的測試區域的檢查窗口的尺寸；根據所述步進數設置每個所述檢查組對應的測試區域的圖形密度的管控規格；以及對每個所述檢查組對應的測試區域按照所述檢查窗口的尺寸分為多個塊，并計算每個所述塊的圖形密度，并根據所述管控規格判斷每個所述塊的圖形密度是否合格；設置每個所述檢查組的不平衡系數的方法包括：Cmi＝K2+1-K2nm-1*i-1；其中，Cmi為第m類柵極的第i個檢查組的不平衡系數，K2為設置的不平衡參數，取值設置在0～1之間，nm為第m類柵極的檢查組的個數，i的取值為1～nm。

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