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龍圖騰網恭喜杭州遠方光電信息股份有限公司申請的專利一種指紋方向場重建匹配方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114663921B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210202716.4，技術領域涉及：G06V40/12；該發明授權一種指紋方向場重建匹配方法是由徐秉政;潘正元;毛之江設計研發完成，并于2022-03-03向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種指紋方向場重建匹配方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種指紋方向場重建匹配方法，已知指紋特征點信息，根據特征點信息重建方向場，并建立特征點質量評價體系，結合特征點和重建的方向場進行指紋匹配，在重建指紋方向場的過程中，特征點和方向場間互相優化迭代；其次還建立了特征點周圍方向區域塊的局部方向場，可用于局部方向場匹配計算。本發明方法增加了指紋匹配過程中計算相似度得分的維度，提高了指紋匹配的精度和準確度，也提高了匹配算法的綜合性能。

本發明授權一種指紋方向場重建匹配方法在權利要求書中公布了：1.一種指紋方向場重建匹配方法，其特征在于，已知指紋特征點信息，根據特征點信息重建方向場，并建立特征點質量評價體系，結合特征點和重建的方向場進行指紋匹配，具體過程如下：S1：對指紋圖像進行劃分得到均布的區域塊，每個區域塊內的方向一致；S2：以每個指紋特征點所屬區域塊為中心按一定方式向周邊輻射，以此重建得到整個指紋圖像方向場；每個區域塊包括方向矢量，特征點所在區域塊的方向為該特征點的方向，以每個特征點所屬區域塊為中心按一定方式向周邊輻射，具體包括：對于任一特征點，設該特征點所在區域塊方向矢量模的大小為1，以該特征點所在區域塊位置為中心，該特征點的周邊各區域塊的方向與該特征點所在區域塊的方向相同，而周邊各區域塊的方向矢量模的大小以距離為變量基于特定函數關系變化，所述的特定函數包括：正態分布函數、高斯函數或反曲線函數；S3：建立質量評價體系，結合指紋特征點及其周圍特征點的方向和位置信息，對每個指紋特征點進行質量評價，得到每個特征點的綜合質量分數，按照每個特征點的綜合質量分數對特征點進行了可信度的分類；S4：結合特征點、特征點的綜合質量分數和重建的方向場進行指紋匹配計算，根據指紋特征點的可信度等級，去除最低可信度等級的特征點，重復步驟S2和S3，進行指紋方向場的迭代重建；或者，對于最低可信度等級的特征點，賦予低比例的匹配權重，并重復步驟S2和S3，繼而不斷遞進優化。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人杭州遠方光電信息股份有限公司，其通訊地址為：310057 浙江省杭州市濱江區濱康路669號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。