恭喜朗姆研究公司朱濟獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利高深寬比結構的有效率的清潔和蝕刻獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112335016B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980039739.4，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權高深寬比結構的有效率的清潔和蝕刻是由朱濟;馬克·卡瓦古奇;南森·馬塞爾懷特設計研發完成，并于2019-06-07向國家知識產權局提交的專利申請。
本高深寬比結構的有效率的清潔和蝕刻在說明書摘要公布了：一種處理襯底的方法包含：將襯底設置在處理室中。將汽化溶劑和包含所述溶劑的氣體混合物中的至少一者供應至所述處理室，以在所述襯底的暴露表面上形成所述溶劑的保形液體層。將所述汽化溶劑及所述氣體混合物中的所述至少一者從所述處理室中移除。將包含鹵素物質的反應性氣體供應至所述處理室。所述保形液體層吸附所述反應性氣體以形成反應性液體層，所述反應性液體層對所述襯底的所述暴露表面進行蝕刻。
本發明授權高深寬比結構的有效率的清潔和蝕刻在權利要求書中公布了：1.一種處理襯底的方法，其包含：a將襯底設置在處理室中；以及b同時將汽化溶劑和包含鹵素物質的反應性氣體供應至所述處理室，以在所述襯底的暴露表面上形成保形液體層；其中所述保形液體層吸附所述反應性氣體以形成反應性液體層，所述反應性液體層對所述襯底的所述暴露表面進行蝕刻，形成氣態的副產物而不會形成殘余物；以及其中所述反應性液體層以在10埃min至100埃min的范圍內的蝕刻速率對所述暴露表面進行蝕刻。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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