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龍圖騰網恭喜株式會社堀場STEC申請的專利流體控制裝置、流體控制系統、診斷方法和程序記錄介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111693230B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010165652.6，技術領域涉及：G01M3/28；該發明授權流體控制裝置、流體控制系統、診斷方法和程序記錄介質是由松本颯太;長井健太郎;今里裕子設計研發完成，并于2020-03-11向國家知識產權局提交的專利申請。

本流體控制裝置、流體控制系統、診斷方法和程序記錄介質在說明書摘要公布了：本發明提供流體控制裝置，能夠以短時間對兩個閥準確判斷有無閥座泄漏，其包括：流體阻力件R，設置于流道；第一閥V1，設置于所述流體阻力件R的上游側；第一壓力傳感器P1，測量所述流道中位于所述第一閥V1與所述流體阻力件R之間的第一容積VL1內的壓力；第二閥V2，設置于所述流體阻力件R的下游側；第二壓力傳感器P2，測量所述流道中位于所述流體阻力件R與所述第二閥V2之間的第二容積VL2的壓力；閥控制器4，控制所述第一閥V1或所述第二閥V2；以及閥座泄漏判斷部52，在所述閥控制器4使所述第一閥V1和所述第二閥V2完全關閉的狀態下，基于所述第一壓力傳感器P1和所述第二壓力傳感器P2的各測量壓力，判斷所述第一閥V1和所述第二閥V2有無閥座泄漏。

本發明授權流體控制裝置、流體控制系統、診斷方法和程序記錄介質在權利要求書中公布了：1.一種流體控制裝置，其特征在于包括：流體阻力件，設置于流道；第一閥，設置于所述流體阻力件的上游側；第一壓力傳感器，測量所述流道中位于所述第一閥與所述流體阻力件之間的第一容積內的壓力；第二閥，設置于所述流體阻力件的下游側；第二壓力傳感器，測量所述流道中位于所述流體阻力件與所述第二閥之間的第二容積的壓力；閥控制器，控制所述第一閥或所述第二閥；以及閥座泄漏判斷部，在所述閥控制器使所述第一閥和所述第二閥完全關閉的狀態下，基于所述第一壓力傳感器和所述第二壓力傳感器的各測量壓力，判斷所述第一閥和所述第二閥有無閥座泄漏，所述閥座泄漏判斷部在所述第一壓力傳感器和所述第二壓力傳感器的測量壓力大致一致以后，基于所述第一壓力傳感器或所述第二壓力傳感器的測量壓力的變化傾向，判斷所述第一閥和所述第二閥有無閥座泄漏，所述變化傾向是所述第一壓力傳感器或所述第二壓力傳感器的測量壓力的隨時間變化的傾向。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人株式會社堀場STEC，其通訊地址為：日本京都府；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。