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龍圖騰網(wǎng)恭喜三星SDI株式會(huì)社申請的專利抗蝕劑底層組成物及使用所述組成物形成圖案的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113396364B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080012809.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/11；該發(fā)明授權(quán)抗蝕劑底層組成物及使用所述組成物形成圖案的方法是由崔有廷;權(quán)純亨;金旼秀;樸賢;裵信孝;白載烈設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-03-23向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本抗蝕劑底層組成物及使用所述組成物形成圖案的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明是有關(guān)于一種抗蝕劑底層組成物及一種使用所述組成物形成圖案的方法。根據(jù)實(shí)施例，所述抗蝕劑底層組成物包含：聚合物，包括在末端處由化學(xué)式1表示的結(jié)構(gòu)以及在主鏈中由化學(xué)式2表示的結(jié)構(gòu)單元及由化學(xué)式3表示的結(jié)構(gòu)單元；以及溶劑。化學(xué)式1至化學(xué)式3的定義與詳細(xì)說明中所述的相同。

本發(fā)明授權(quán)抗蝕劑底層組成物及使用所述組成物形成圖案的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種抗蝕劑底層組成物，包含聚合物，包括在末端處由化學(xué)式1表示的結(jié)構(gòu)以及在主鏈中由化學(xué)式2表示的結(jié)構(gòu)單元及由化學(xué)式3表示的結(jié)構(gòu)單元；以及溶劑：[化學(xué)式1] [化學(xué)式2] [化學(xué)式3] 其中，在化學(xué)式1至化學(xué)式3中，L1至L7獨(dú)立地為單鍵、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至C30亞烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6至C30亞芳基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至C30雜亞烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C3至C20亞環(huán)烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2至C20雜亞環(huán)烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至C30雜亞烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2至C30雜亞芳基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至C30亞烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至C30亞炔基或其組合，A為O、S、CO、COO、NRa或CONRb，B、C及D獨(dú)立地為O、S、SO2、CO、COO、NRa或CONRb，B、C及D中的至少一者為S，n1、n2、n3及n4獨(dú)立地為0至3的一個(gè)整數(shù)，其限制條件是n2、n3及n4中的至少一者為1或大于1的整數(shù)，Ra、Rb及R1至R3獨(dú)立地為氫、氘、羥基、硫醇基、鹵素、羧基、乙酰基、胺基、氰基、硝基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至C30烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C2至C30烯基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6至C30芳基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至C10烷氧基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至C30酰基或其組合，且*為連接點(diǎn)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人三星SDI株式會(huì)社，其通訊地址為：韓國京畿道龍仁市器興區(qū)貢稅路150-20號(郵遞區(qū)號:17084)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。