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龍圖騰網恭喜江蘇大學申請的專利一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴及其系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112588463B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011468151.1，技術領域涉及：B05B5/00；該發明授權一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴及其系統是由霍元平;馬登輝;張聰;王軍鋒設計研發完成，并于2020-12-14向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴及其系統在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴及其系統，正多邊體結構的噴嘴主體，噴嘴主體的一端為噴射端，另一端為注液端；噴射端的端面為附著面，噴射端處相鄰噴嘴外壁面之間的棱角是噴嘴尖端；在噴射端的每一個噴嘴外壁面上均沿軸向設有液體明渠，液體明渠的底端延伸至附著面，每個液體明渠的頂端都設有出液口；由注液端向噴嘴主體內部沿軸向設有注液腔；注液腔的底部通過出液口與噴嘴主體外部相連通；所述噴嘴主體連接高壓發生器；由于噴嘴尖端電荷密度集中，因此在每個噴嘴尖端產生射流；因此可以增加霧化流量同時可獲得單分散性良好、射流區域廣的霧化液滴。

本發明授權一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴及其系統在權利要求書中公布了：1.一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴，其特征在于，包括噴嘴主體5，噴嘴主體5為正多邊體結構，噴嘴主體5的一端為噴射端，另一端為注液端；噴射端的端面為附著面17，噴射端處相鄰噴嘴外壁面4之間的棱角是噴嘴尖端1；在噴射端的每一個噴嘴外壁面4上均沿軸向設有液體明渠2，液體明渠2的底端延伸至附著面17，每個液體明渠2的頂端都設有出液口3；由注液端向噴嘴主體5內部沿軸向設有注液腔8；注液腔8的底部通過出液口3與噴嘴主體5外部相連通；所述噴嘴主體5連接高壓發生器12；液體明渠2沿著噴嘴外壁面4軸向的中位線設置；液體明渠2的橫截面形狀設計為弧形槽或正多邊形槽；液體明渠2的長度L＝13L0～12L0,L0為噴嘴主體5的長度；出液口3的橫截面形狀是圓形或者多邊形；工作過程：噴嘴主體5為正六邊體，故噴嘴主體5有6個噴嘴外壁面4，每個噴嘴外壁面4上設有液體明渠2；將待霧化液體如乙醇作為霧化工質，將乙醇裝入注射器10，通過控制三維升降臺11使噴嘴主體5位于收集電極15正上方15mm處，調節微量注射泵9流量到30mLh；待霧化液體就會經輸液管16由注液口6進入噴嘴主體5，隨后待霧化液體從噴嘴外壁面4的6個出液口3流出，并沿著液體明渠2輸配到附著面17后積聚受重力落下，呈現出滴狀模式；開啟負高壓發生器12并逐漸增加電壓，液滴滴落速度隨之加快，接著轉換到錐射流模式，繼續加大電壓到12.21kV，大液體錐會逐漸收縮扁平，在電荷密度較為集中的噴嘴尖端1產生射流7，形成穩定六股射流；由于穩定多股模式中液面不發生波動，射流7絕對穩定，故持續大量獲得粒徑細小、單分散性好、可控性強、沉積率高的荷電微液滴；整個過程，霧化液體沿著液體明渠2有序流動，不產生流速和流量的突變；附著面17有效抑制了液面上下跳動增強液體表面吸附力，大液錐更容易收縮扁平形成液膜，削減了液面波動和射流不穩定性；同時小液錐貼附在附著面17上，貼附面積大幅提高增加了每股射流的粘附力抑制了射流轉移，從而保證了靜電霧化在穩定多股射流模式下運行。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人江蘇大學，其通訊地址為：212013 江蘇省鎮江市京口區學府路301號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。