恭喜湖南普照信息材料有限公司周志剛獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜湖南普照信息材料有限公司申請的專利一種低折射率低消光系數的相移掩模坯料制作方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117348329B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311362139.6，技術領域涉及：G03F1/26；該發明授權一種低折射率低消光系數的相移掩模坯料制作方法是由周志剛;李偉;李翼設計研發完成，并于2023-10-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種低折射率低消光系數的相移掩模坯料制作方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種低折射率低消光系數的相移掩模坯料制作方法，包括：選取相移掩模坯料基底，基底的折射率在1.6以下、消光系數在0.05以下；將基底進行拋光、清洗處理；在基底上堆疊過渡層，過渡層的折射率n1與基底的折射率n2之差在0.3以內；在過渡層上堆疊相移層，相移層的折射率n3分別與過渡層的折射率n1、基底的折射率n2之差在0.5以內，相移層對于波長190?900nm的光的消光系數k1為0.9以下；在相移層上堆疊鉻膜層；在鉻膜層上堆疊光刻膠。本發明提供的相移掩模坯料制作方法，能夠在190?900nm全波長上保持較低的消光系數，減少各曝光光源下的光刻時間，提高光刻效率，同時保證相移膜的膜層厚度有利于光刻結構的形成。
本發明授權一種低折射率低消光系數的相移掩模坯料制作方法在權利要求書中公布了：1.一種低折射率低消光系數的相移掩模坯料制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：選取相移掩模坯料基底，所述基底的折射率在1.6以下、消光系數在0.05以下；對所述基底進行拋光、清洗處理；在所述基底上堆疊過渡層，所述過渡層為二氧化硅膜層，所述過渡層的折射率n1與所述基底的折射率n2之差在0.3以內；在所述過渡層上堆疊相移層，所述相移層的折射率n3分別與過渡層的折射率n1、基底的折射率n2之差在0.5以內，所述相移層對于波長190-900nm的光的消光系數k1為0.9以下；在所述相移層上堆疊鉻膜層，用于形成圖形結構；在所述鉻膜層上堆疊光刻膠層，完成相移掩模坯料制作。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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