恭喜ams有限公司P.庫薩獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ams有限公司申請的專利使用灰度光刻形成三維結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113168113B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980078329.0，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權使用灰度光刻形成三維結構是由P.庫薩;G.埃爾姆斯泰納設計研發完成，并于2019-11-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本使用灰度光刻形成三維結構在說明書摘要公布了：形成三維結構包括在層上施加光致抗蝕劑以及使用光刻系統曝光光致抗蝕劑。光刻系統包括其上具有圖案的光掩模，其中圖案在光掩模的表面上提供變化的圖案密度，并且具有小于光刻系統的分辨率的間距。該方法包括隨后顯影光致抗蝕劑，使得保留在該層上的光致抗蝕劑具有由光掩模限定的三維輪廓。各向同性蝕刻劑被用于蝕刻該層，使得該光致抗蝕劑的三維輪廓轉移到該層。
本發明授權使用灰度光刻形成三維結構在權利要求書中公布了：1.一種形成三維結構的方法，所述方法包括:在光感測設備上方的層上施加光致抗蝕劑，其中所述光感測設備包括具有光敏區域的光電二極管和設置在光敏區域上方的后端楔形氧化物層；使用光刻系統曝光所述光致抗蝕劑，其中所述光刻系統包括其上具有圖案的光掩模，所述圖案在所述光掩模的表面上提供變化的圖案密度，并且具有小于所述光刻系統的分辨率的間距；隨后顯影所述光致抗蝕劑，使得保留在所述層上的光致抗蝕劑具有由所述光掩模限定的三維輪廓；以及使用各向同性蝕刻劑蝕刻所述層，使得所述光致抗蝕劑的所述三維輪廓轉移到所述層。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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