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龍圖騰網(wǎng)恭喜鄭州輕工業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專利一種SEM耦合納米機(jī)器人Z向高度探測(cè)的晶界三維長(zhǎng)度自動(dòng)表征方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115371602B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211049651.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01B15/04；該發(fā)明授權(quán)一種SEM耦合納米機(jī)器人Z向高度探測(cè)的晶界三維長(zhǎng)度自動(dòng)表征方法是由曹寧;沈斐玲設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-08-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種SEM耦合納米機(jī)器人Z向高度探測(cè)的晶界三維長(zhǎng)度自動(dòng)表征方法在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明屬于微納測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，具體公開一種SEM耦合納米機(jī)器人Z向高度探測(cè)的晶界三維長(zhǎng)度自動(dòng)表征方法，1.包括以下步驟：步驟1，放置氧化鋅樣品；對(duì)氧化鋅樣品進(jìn)行拋光，將拋光面記為X?Y面，使X?Y面保持水平向上，將氧化鋅樣品放入SEM的樣品室內(nèi)；步驟2，獲取目標(biāo)晶界在X?Y面內(nèi)的二維輪廓形狀和長(zhǎng)度；步驟3，對(duì)目標(biāo)晶界輪廓在不同Y值時(shí)的高差進(jìn)行立體高度自動(dòng)探測(cè)；劃分Y向的位置點(diǎn)，然后對(duì)Y向位置點(diǎn)進(jìn)行Z向探測(cè)，計(jì)算高差；步驟4，對(duì)目標(biāo)晶界輪廓在不同X值時(shí)的高差進(jìn)行立體高度自動(dòng)探測(cè)；劃分X向的位置點(diǎn)，然后對(duì)X向位置點(diǎn)進(jìn)行Z向探測(cè)，計(jì)算高差；步驟5，虛擬重構(gòu)目標(biāo)晶界的三維長(zhǎng)度。

本發(fā)明授權(quán)一種SEM耦合納米機(jī)器人Z向高度探測(cè)的晶界三維長(zhǎng)度自動(dòng)表征方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種SEM耦合納米機(jī)器人Z向高度探測(cè)的晶界三維長(zhǎng)度自動(dòng)表征方法，其特征在于，包括以下步驟：步驟1，放置氧化鋅樣品；對(duì)氧化鋅樣品進(jìn)行拋光，將拋光面記為X-Y面，使X-Y面保持水平向上，將氧化鋅樣品放入SEM的樣品室內(nèi)；步驟2，獲取目標(biāo)晶界在X-Y面內(nèi)的二維輪廓形狀和長(zhǎng)度；步驟3，對(duì)目標(biāo)晶界輪廓在不同Y值時(shí)的高差進(jìn)行立體高度自動(dòng)探測(cè)；劃分Y向的位置點(diǎn)，然后對(duì)Y向位置點(diǎn)進(jìn)行Z向探測(cè)，計(jì)算高差；步驟4，對(duì)目標(biāo)晶界輪廓在不同X值時(shí)的高差進(jìn)行立體高度自動(dòng)探測(cè)；劃分X向的位置點(diǎn)，然后對(duì)X向位置點(diǎn)進(jìn)行Z向探測(cè)，計(jì)算高差；步驟5，虛擬重構(gòu)目標(biāo)晶界的三維長(zhǎng)度；在步驟2中，獲取目標(biāo)晶界在X-Y面內(nèi)的二維輪廓形狀和長(zhǎng)度的方法為：利用SEM對(duì)氧化鋅樣品內(nèi)的晶界在X-Y面內(nèi)進(jìn)行初步成像，然后選擇氧化鋅樣品內(nèi)的輪廓形狀規(guī)則的晶界作為目標(biāo)晶界，再利用SEM對(duì)氧化鋅樣品內(nèi)的目標(biāo)晶界在X-Y面內(nèi)進(jìn)行第二次單獨(dú)成像，獲取目標(biāo)晶界在X-Y面內(nèi)的二維輪廓形狀，計(jì)算二維輪廓形狀的X向長(zhǎng)度和Y向長(zhǎng)度；在步驟3中，劃分Y向位置點(diǎn)的方法為：沿Y方向?qū)⒛繕?biāo)晶界輪廓等距劃分為Y1,Y2,……,Yn的n個(gè)不同位置點(diǎn)，將依次通過不同位置點(diǎn)Y1,Y2,……,Yn的n個(gè)X-Z面稱作面YXZ1,面YXZ2,……,面YXZn，該面YXZ1,面YXZ2,……,面YXZn沿X方向分別與目標(biāo)晶界的二維輪廓相交兩個(gè)位置點(diǎn)，該兩個(gè)位置點(diǎn)依次稱作Yx11、Yx21,Yx12、Yx22,……,Yx1n、Yx2n；在步驟4中，劃分X向位置點(diǎn)的方法為：沿X方向?qū)⒛繕?biāo)晶界輪廓等距劃分為X1,X2,……,Xn的n個(gè)不同位置點(diǎn)，將依次通過不同位置點(diǎn)X1,X2,……,Xn的n個(gè)Y-Z面稱作面XYZ1,面XYZ2,……,面XYZn，該面XYZ1,面XYZ2,……,面XYZn沿Y方向分別與目標(biāo)晶界的二維輪廓相交兩個(gè)位置點(diǎn)，該兩個(gè)位置點(diǎn)依次稱作Xy11、Xy21,Xy12、Xy22,……,Xy1n、Xy2n。

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