恭喜ASML荷蘭有限公司R·J·拉法克獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利極紫外光源中的目標擴展速率控制獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113966061B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111336436.4，技術領域涉及：H05G2/00；該發明授權極紫外光源中的目標擴展速率控制是由R·J·拉法克;D·J·里格斯設計研發完成，并于2016-08-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本極紫外光源中的目標擴展速率控制在說明書摘要公布了：本公開涉及極紫外光源中的目標擴展速率控制。一種方法，包括：提供目標材料，目標材料包括在被轉換為等離子體時發射極紫外EUV光的成分；朝向目標材料引導第一輻射束以向目標材料傳遞能量以修改目標材料的幾何分布以形成經修改的目標；朝向經修改的目標引導第二輻射束，第二輻射束將經修改的目標的至少一部分轉換為發射EUV光的等離子體；測量相對于第一輻射束的與目標材料和經修改的目標中的一個或多個相關聯的一個或多個特性；以及基于測量的一個或多個特性來將從第一輻射束向目標材料傳遞的輻射曝光量控制在預定能量范圍內。
本發明授權極紫外光源中的目標擴展速率控制在權利要求書中公布了：1.一種用于極紫外EUV光源的裝置，所述裝置包括：光學裝置，被配置為使第一輻射束在腔室內與目標材料相互作用，以形成經修改后的目標；第一測量系統，包括傳感器，被配置為接收所述目標材料與所述第一輻射束相互作用時從所述目標材料反射的輻射；第二測量系統，包括多個測量子系統，每一個子系統被配置為測量從所述第一輻射束與所述目標材料之間的相互作用形成的所述經修改的目標的空間方面；以及控制系統，與所述第一測量系統和所述第二測量系統通信，所述控制系統被配置為分析來自所述第一測量系統和所述第二測量系統的輸出，并且向所述光學裝置發送基于所述分析的信息。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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