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龍圖騰網恭喜藍河科技(紹興)有限公司申請的專利半導體處理設備的控制方法和半導體處理設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119764224B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510258413.8，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權半導體處理設備的控制方法和半導體處理設備是由王明輝;邢志剛;徐春陽;劉雷設計研發完成，并于2025-03-06向國家知識產權局提交的專利申請。

本半導體處理設備的控制方法和半導體處理設備在說明書摘要公布了：本發明提供了一種半導體處理設備的控制方法和半導體處理設備，半導體處理設備包括設有檢測裝置、控制模塊和壓力傳感裝置的半導體處理腔體，半導體處理腔體設有正壓吹掃控制管路、負壓進氣控制管路和抽排氣控制管路，控制方法包括：控制模塊判斷檢測物信息包括含水氧后，根據壓力信息控制正壓吹掃控制管路使半導體處理腔體內連續通入和排出吹掃氣體；控制模塊判斷檢測物信息包括含有害物后，根據壓力信息控制抽排氣控制管路和負壓進氣控制管路，以使半導體處理腔體內的壓力在負壓設定范圍下分別對半導體處理腔體執行通入吹掃氣體的操作和進行抽排氣控制的操作。本發明解決現有技術中采用正壓吹掃容易導致有害物質泄漏擴散到環境中的安全隱患問題。

本發明授權半導體處理設備的控制方法和半導體處理設備在權利要求書中公布了：1.一種半導體處理設備的控制方法，其特征在于，包括執行正壓吹掃控制步驟或負壓吹掃控制步驟，所述正壓吹掃控制步驟包括正壓連續吹掃控制步驟；所述半導體處理設備包括設有檢測裝置、控制模塊和壓力傳感裝置的半導體處理腔體，所述半導體處理腔體設有正壓吹掃控制管路、負壓進氣控制管路和抽排氣控制管路，所述半導體處理腔體內放置有待處理物；所述正壓連續吹掃控制步驟包括：所述控制模塊根據所述檢測裝置發送的檢測物信息判斷為含水氧以及控制所述負壓進氣控制管路和所述抽排氣控制管路為關閉狀態后，根據所述壓力傳感裝置發送的壓力信息控制所述正壓吹掃控制管路，以使所述半導體處理腔體內連續通入和排出吹掃氣體，以及使所述半導體處理腔體內的壓力在正壓設定范圍內；所述負壓吹掃控制步驟包括：所述控制模塊根據所述檢測裝置發送的檢測物信息判斷為含有害物以及控制所述正壓吹掃控制管路為關閉狀態后，根據所述壓力傳感裝置發送的壓力信息控制所述抽排氣控制管路和所述負壓進氣控制管路，以使所述半導體處理腔體內的壓力在負壓設定范圍下分別對所述半導體處理腔體執行通入所述吹掃氣體的操作和進行抽排氣控制的操作。

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