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龍圖騰網(wǎng)恭喜SPTS科技有限公司申請(qǐng)的專利諧振器裝置及其制造方法及在襯底上沉積金屬層的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113512705B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202110249843.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/35；該發(fā)明授權(quán)諧振器裝置及其制造方法及在襯底上沉積金屬層的方法是由S·海默爾;A·托馬斯;S·伯吉斯設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-03-08向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本諧振器裝置及其制造方法及在襯底上沉積金屬層的方法在說明書摘要公布了：本申請(qǐng)案涉及一種沉積方法。根據(jù)本發(fā)明提供一種在諧振器裝置的制造中在襯底上濺鍍沉積金屬層的方法，其中所述金屬層由選自鉬Mo、鎢W、鈦Ti、鉭Ta、鉑Pt或釕Ru的金屬組成，所述方法包括以下步驟：提供包括腔室、安置于所述腔室內(nèi)的襯底支撐件、由金屬材料制成的靶標(biāo)及等離子體產(chǎn)生裝置的磁控濺鍍?cè)O(shè)備，其中所述襯底支撐件與所述靶標(biāo)分離開10cm或更小的距離；將所述襯底支撐于所述襯底支撐件上；執(zhí)行DC磁控濺鍍步驟，其包括將所述金屬材料從所述靶標(biāo)濺鍍到所述襯底上以便在所述襯底上形成金屬層，其中在所述DC磁控濺鍍步驟期間，所述腔室的惰性氣體具有至少6毫托的壓力，所述靶標(biāo)被供應(yīng)具有至少6Wcm2的功率密度的功率，且所述襯底具有200到600℃范圍內(nèi)的溫度。

本發(fā)明授權(quán)諧振器裝置及其制造方法及在襯底上沉積金屬層的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種在諧振器裝置的制造中在襯底上濺鍍沉積金屬層的方法，其中所述金屬層由選自鉬Mo、鎢W、鈦Ti、鉭Ta、鉑Pt或釕Ru的金屬組成，所述方法包括以下步驟：提供包括腔室、安置于所述腔室內(nèi)的襯底支撐件、由金屬材料制成的靶標(biāo)及等離子體產(chǎn)生裝置的磁控濺鍍?cè)O(shè)備，其中所述襯底支撐件與所述靶標(biāo)分離開10cm或更小的距離；將所述襯底支撐于所述襯底支撐件上；執(zhí)行DC磁控濺鍍步驟，其包括將所述金屬材料從所述靶標(biāo)濺鍍到所述襯底上以便在所述襯底上形成金屬層，其中在所述DC磁控濺鍍步驟期間，所述腔室的惰性氣體具有至少6毫托的壓力，所述靶標(biāo)被供應(yīng)具有至少6Wcm2的功率密度的功率，且所述襯底具有200到600℃范圍內(nèi)的溫度。

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