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龍圖騰網恭喜江蘇斯瑞達材料技術股份有限公司申請的專利一種低粘低爬升聚氨酯光學保護膜及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119119941B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411604610.2，技術領域涉及：C09J175/04；該發明授權一種低粘低爬升聚氨酯光學保護膜及其制備方法是由汪國明;金小林設計研發完成，并于2024-11-12向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種低粘低爬升聚氨酯光學保護膜及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明涉及保護膜技術領域，具體為一種低粘低爬升聚氨酯光學保護膜及其制備方法。本發明通過含雙鍵超支化聚酯與1H,1H,2H,2H?全氟癸硫醇、含巰基有機硅發生巰基?烯點擊反應，引入含氟鏈段和硅氧烷鏈段，得到改性超支化聚酯；再通過接枝改性的方法，將改性超支化聚酯引入到聚氨酯中，制得聚氨酯膠粘劑；將其涂覆在基材的表面上，然后與離型膜復合，熟化后，得到聚氨酯光學保護膜。本發明制備的聚氨酯光學保護膜具有優異的低粘性和低爬升性能，能夠有效地保護光學器件表面不受污染和損傷，提高其使用壽命和穩定性。

本發明授權一種低粘低爬升聚氨酯光學保護膜及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種低粘低爬升聚氨酯光學保護膜的制備方法，其特征在于：包括如下步驟：步驟S1：將改性多元醇、聚醚多元醇和抗氧化劑混合均勻，在110-120℃下真空脫水2-3h，降溫至80-90℃，在氮氣保護下，加入異佛爾酮二異氰酸酯和二月桂酸二丁基錫混合均勻，反應3-5h，加入2,2-二羥甲基丁酸、改性超支化聚酯和丙酮，反應3-5h；降溫至30-40℃，加入三乙胺進行中和，再加入去離子水進行乳化,抽真空脫除溶劑丙酮，得到水性聚氨酯乳液；向水性聚氨酯乳液中加入消泡劑、流平劑混合均勻，得到聚氨酯膠粘劑；步驟S2：將步驟S1制得的聚氨酯膠粘劑涂覆在基材的表面上，在100-110℃下干燥2-3min，形成聚氨酯膠粘層；然后與離型膜復合，在40-60℃下熟化24-72h，得到聚氨酯光學保護膜；所述改性多元醇的制備方法如下：在氮氣保護下，將衣康酸、丁二酸、乙二醇、異山梨醇和對苯二酚、鈦酸四丁酯混合均勻，在160-170℃下反應2-3h，控制體系真空度為0.09MPa，在160-170℃下反應5-7h，冷卻至室溫，經純化、干燥后，得到含雙鍵聚酯；將含雙鍵聚酯和1-硫代甘油、光引發劑混合均勻，經紫外光照射后，制得改性多元醇；所述步驟S1中，聚氨酯膠粘劑包括以下重量組分：改性多元醇40-50份、聚醚多元醇10-15份、異佛爾酮二異氰酸酯70-90份、二月桂酸二丁基錫1-3份、2，2-二羥甲基丁酸2-4份、改性超支化聚酯5-15份、三乙胺0.2-0.5份、去離子水20-40份、消泡劑0.1-0.2份、流平劑0.1-0.3份、抗氧化劑0.1-0.4份；所述改性超支化聚酯的制備方法如下：步驟（1）：將三羥甲基丙烷、2,2-二羥甲基丙酸和N,N-二甲基甲酰胺混合均勻，在冰浴條件下，加入N,N-二環己基碳二亞胺和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶液，攪拌反應4-6h，經離心、旋蒸、干燥后，得到端羥基超支化聚酯；步驟（2）：將異佛爾酮二異氰酸酯和3-苯基丙-2-烯-1-醇、二月桂酸二丁基錫混合均勻，在45-55℃下反應5-7h，得到含雙鍵異氰酸酯化合物；將含雙鍵異氰酸酯化合物和端羥基超支化聚酯混合均勻，加入二月桂酸二丁基錫，在45-55℃下反應6-8h，得到含雙鍵超支化聚酯；步驟（3）：在氮氣保護下，將3-巰丙基甲基二甲氧基硅烷、去離子水和異丙醇混合均勻，升溫至60-70℃，加入羥基硅油和四甲基氫氧化銨混合均勻，反應4-6h，經減壓蒸餾，得到含巰基有機硅；步驟（4）：將含雙鍵超支化聚酯、1H,1H,2H,2H-全氟癸硫醇和含巰基有機硅混合均勻，加入光引發劑，經紫外光照射后，得到改性超支化聚酯。

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