恭喜朗姆研究公司伊時塔克·卡里姆獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利使用碳基膜空間選擇性灰化改善沉積引起的CD不平衡的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111512413B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201880077280.2，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權使用碳基膜空間選擇性灰化改善沉積引起的CD不平衡的方法是由伊時塔克·卡里姆;普爾凱特·阿加瓦爾;約瑟夫·R·阿貝爾;普魯肖塔姆·庫馬爾;阿德里安·拉沃伊設計研發完成，并于2018-11-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本使用碳基膜空間選擇性灰化改善沉積引起的CD不平衡的方法在說明書摘要公布了：提供了一種用于利用碳基沉積物在晶片上形成特征的方法。對所述碳基沉積物進行預調節，其中，所述預調節導致所述碳基沉積物中的一些的不均勻去除。通過原子層沉積工藝沉積氧化硅基材料的氧化物沉積物，其中所述沉積所述氧化物沉積物導致所述碳基沉積物中的一些的不均勻去除，其與通過所述預調節導致的所述碳基沉積物中的一些的不均勻去除互補。
本發明授權使用碳基膜空間選擇性灰化改善沉積引起的CD不平衡的方法在權利要求書中公布了：1.一種用于利用碳基沉積物在晶片上形成特征的方法，其包括：對所述碳基沉積物進行預調節，其中，所述預調節導致所述碳基沉積物中的一些的不均勻去除；以及通過原子層沉積工藝沉積氧化硅基材料的氧化物沉積物，其中所述沉積所述氧化物沉積物導致所述碳基沉積物中的另一些的不均勻去除，其與通過所述預調節導致的所述碳基沉積物中的一些的不均勻去除互補。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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