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龍圖騰網(wǎng)恭喜索泰克公司申請(qǐng)的專利制造包括位于由SiC制成的載體基板上的單晶SiC薄層的復(fù)合結(jié)構(gòu)的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114730699B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080080496.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/02；該發(fā)明授權(quán)制造包括位于由SiC制成的載體基板上的單晶SiC薄層的復(fù)合結(jié)構(gòu)的方法是由H·比亞爾設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-10-26向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本制造包括位于由SiC制成的載體基板上的單晶SiC薄層的復(fù)合結(jié)構(gòu)的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種制造包括布置在由碳化硅制成的載體基板上的單晶碳化硅的薄層的復(fù)合結(jié)構(gòu)的方法，該方法包括以下步驟：a）提供由單晶碳化硅制成的初始基板，b）在初始基板上外延生長單晶碳化硅供體層，以形成供體基板，c）將輕物質(zhì)離子注入到供體層中，以形成掩埋脆性平面，d）在低于1000°C的溫度進(jìn)行直接液體注入化學(xué)氣相淀積，以直接在供體層的自由表面上形成載體層，e）沿掩埋脆性平面進(jìn)行分離，以一方面形成包括位于載體層上的薄層的中間復(fù)合結(jié)構(gòu)，并且另一方面形成供體基板的其余部分，f）在介于1000°C至1800°C之間的溫度向中間復(fù)合結(jié)構(gòu)施加熱處理，g）對(duì)復(fù)合結(jié)構(gòu)進(jìn)行機(jī)械和或化學(xué)處理。

本發(fā)明授權(quán)制造包括位于由SiC制成的載體基板上的單晶SiC薄層的復(fù)合結(jié)構(gòu)的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種復(fù)合結(jié)構(gòu)（1）的制造方法，所述復(fù)合結(jié)構(gòu)包括布置在由碳化硅制成的載體基板（20）上的單晶碳化硅的薄層（10），所述制造方法包括以下步驟：a）提供由單晶碳化硅制成的初始基板（11），b）在所述初始基板（11）上外延生長單晶碳化硅的供體層（110），以形成供體基板（111），所述供體層（110）的晶體缺陷密度小于所述初始基板（11）的晶體缺陷密度，c）將輕物質(zhì)離子注入到所述供體層（110）中，以形成掩埋脆性平面（12），所述掩埋脆性平面（12）將所述薄層（10）界定在所述掩埋脆性平面（12）與所述供體層（110）的自由表面之間，d）在低于1000°C的溫度進(jìn)行直接液體注入-化學(xué)氣相淀積，以直接在所述供體層（110）的所述自由表面上形成載體層（20’），所述載體層（20’）由至少部分無定形的SiC基質(zhì)形成，e）沿所述掩埋脆性平面（12）進(jìn)行分離，以一方面形成包括位于所述載體層（20’）上的所述薄層（10）的中間復(fù)合結(jié)構(gòu)（1’），并且另一方面形成所述供體基板的其余部分（111’），f）在介于1000°C至1800°C之間的溫度向所述中間復(fù)合結(jié)構(gòu)（1’）施加熱處理，以使所述載體層（20’）結(jié)晶并形成多晶的載體基板（20），g）對(duì)所述復(fù)合結(jié)構(gòu)（1）進(jìn)行機(jī)械和或化學(xué)處理，所述機(jī)械和或化學(xué)處理施加于所述載體基板（20）的自由面，和或施加于所述薄層（10）的自由面，所述載體基板（20）的自由面是所述復(fù)合結(jié)構(gòu)（1）的背面，并且所述薄層（10）的自由面是所述復(fù)合結(jié)構(gòu)（1）的正面。

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