恭喜中國科學院微電子研究所;真芯(北京)半導體有限責任公司李相龍獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜中國科學院微電子研究所;真芯(北京)半導體有限責任公司申請的專利一種絕緣窗、反應腔及電感耦合等離子體處理裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114520138B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202011297698.X,技術領域涉及:H01J37/32;該發明授權一種絕緣窗、反應腔及電感耦合等離子體處理裝置是由李相龍;周娜;李俊杰;李琳;王佳設計研發完成,并于2020-11-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種絕緣窗、反應腔及電感耦合等離子體處理裝置在說明書摘要公布了:本發明公開一種絕緣窗、反應腔及電感耦合等離子體處理裝置,涉及半導體技術領域,以解決由于陶瓷窗表面溫度不均勻,生成聚合物顆粒,影響刻蝕工藝的良率和性能的問題。所述絕緣窗包括:絕緣窗本體、加熱組件和溫度控制組件。絕緣窗本體具有腔體結構。加熱組件均勻的設置在腔體結構中,用于對絕緣窗本體進行加熱。溫度控制組件與加熱組件相連接,用于調節加熱組件的加熱溫度。所述反應腔包括上述技術方案所提的絕緣窗。所述電感耦合等離子體處理裝置包括上述技術方案所提的絕緣窗。本發明提供的電感耦合等離子體處理裝置用于處理晶圓。
本發明授權一種絕緣窗、反應腔及電感耦合等離子體處理裝置在權利要求書中公布了:1.一種絕緣窗,其特征在于,應用于電感耦合等離子處理設備的反應腔中,所述絕緣窗包括:絕緣窗本體、加熱組件和溫度控制組件;所述絕緣窗本體具有腔體結構;所述加熱組件均勻的設置在所述腔體結構中,用于對所述絕緣窗本體進行加熱;所述溫度控制組件與所述加熱組件相連接,用于調節所述加熱組件的加熱溫度;所述加熱組件包括至少一個加熱管道;所述溫度控制組件,包括:蒸發器和第二控制器,所述蒸發器與所述加熱管道和液體供應管道連接,所述蒸發器用于將所述液體供應管道內的液體蒸發為氣體狀態;所述第二控制器,用于在氣體溫度到達預設溫度時,控制所述蒸發器將氣體通入所述加熱管道。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院微電子研究所;真芯(北京)半導體有限責任公司,其通訊地址為:100029 北京市朝陽區北土城西路3號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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