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龍圖騰網(wǎng)恭喜江蘇魯汶儀器股份有限公司申請的專利一種等離子密度可調(diào)的離子源裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115376870B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110541749.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J27/18；該發(fā)明授權(quán)一種等離子密度可調(diào)的離子源裝置是由張瑤瑤;劉小波;胡冬冬;張懷東;劉海洋;李曉磊;李娜;郭頌;許開東設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-05-18向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種等離子密度可調(diào)的離子源裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種等離子密度可調(diào)的離子源裝置，屬于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域。等離子密度可調(diào)的離子源裝置的放電腔的外側(cè)纏繞線圈；射頻模塊與線圈相連接；氣管道導(dǎo)入離子源腔室與所述放電腔相連通；離子源腔室與放電腔的同向開放端面設(shè)有格柵；放電腔由兩個(gè)非統(tǒng)一直徑的大徑段放電腔及小徑段放電腔組成；大徑段放電腔及小徑段放電腔相通；大徑段放電腔的一端面為開放端面，該開放端面面向格柵。本發(fā)明涉及等離子密度可調(diào)的離子源裝置，采用不同位置的線圈可以對晶圓的中間區(qū)域及邊緣區(qū)域進(jìn)行獨(dú)立與整體轟擊，使得調(diào)整放電腔的等離子體密度分布，保證刻蝕均勻性。

本發(fā)明授權(quán)一種等離子密度可調(diào)的離子源裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種等離子密度可調(diào)的離子源裝置，包括離子源腔室（15）和射頻模塊；離子源腔室（15）內(nèi)設(shè)有放電腔（3）；所述放電腔（3）的外側(cè)纏繞有線圈；所述射頻模塊與線圈相連接；進(jìn)氣管道（9）穿過所述離子源腔室（15）與所述放電腔（3）相連通；所述離子源腔室（15）與所述放電腔（3）的同向開放端面設(shè)有格柵；其特征在于：所述放電腔（3）為大徑段放電腔及小徑段放電腔組合形成凸形腔體結(jié)構(gòu)；所述大徑段放電腔及所述小徑段放電腔相通且中心軸線保持一致；所述大徑段放電腔的一端面為開放端面，該開放端面面向格柵；所述放電腔的外側(cè)纏繞線圈包括線圈一（4）及線圈二（5）；所述線圈一（4）盤繞于所述大徑段放電腔的封閉底部端面；所述線圈二（5）盤繞于小徑段放電腔的外周壁；所述的小徑段放電腔的內(nèi)徑為大徑段放電腔的內(nèi)徑的14~12；射頻模塊包括：設(shè)在離子源腔室（15）上的若干個(gè)射頻柱、射頻電源（7）與射頻匹配器（8），射頻電源（7）與射頻匹配器（8）相連，射頻匹配器（8）與功率分配模塊（6）相連，功率分配模塊（6）通過射頻柱分別與線圈一（4）及線圈二（5）相連；功率分配模塊（6）用于對線圈一（4）及線圈二（5）的功率進(jìn)行調(diào)配；若干個(gè)所述射頻柱位于離子源腔室（15）的封閉端部；若干個(gè)所述射頻柱貫穿離子源腔室（15）的封閉端部。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人江蘇魯汶儀器股份有限公司，其通訊地址為：221000 江蘇省徐州市邳州經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)遼河西路8號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。