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龍圖騰網(wǎng)恭喜華海清科股份有限公司;清華大學(xué)申請的專利一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液及化學(xué)機(jī)械拋光方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116240550B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310253838.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23F3/06；該發(fā)明授權(quán)一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液及化學(xué)機(jī)械拋光方法是由張力飛;王同慶;路新春設(shè)計研發(fā)完成，并于2023-03-16向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液及化學(xué)機(jī)械拋光方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液及化學(xué)機(jī)械拋光方法，所述拋光液包括磨料、氧化劑、緩蝕劑、絡(luò)合劑和水；其中，所述緩蝕劑包括1,2,4?三氮唑、油酸鉀或1?苯基?5?巰基四氮唑中的任意一種或至少兩種的組合。本發(fā)明在拋光液中加入特定組分和濃度的緩蝕劑，使得CuCo的拋光速率選擇比處于可調(diào)狀態(tài)，用以降低表面腐蝕、提高金屬表面平坦化質(zhì)量，防止拋光過程中造成表面粗糙、碟形和腐蝕坑等缺陷的出現(xiàn)。

本發(fā)明授權(quán)一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液及化學(xué)機(jī)械拋光方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于晶圓的銅互連鈷阻擋層結(jié)構(gòu)的化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液，其特征在于，所述拋光液包括磨料、氧化劑、緩蝕劑、絡(luò)合劑和水；其中，所述氧化劑為過硫酸鉀，所述緩蝕劑由1-苯基-5-巰基四氮唑和油酸鉀組成且濃度比為1:1-5，所述絡(luò)合劑包括檸檬酸或乙二胺四乙酸中的任意一種或兩種的組合，使得鈷的材料去除率高于銅，并且銅鈷的拋光速率選擇比處于一種可調(diào)節(jié)的狀態(tài)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人華海清科股份有限公司;清華大學(xué)，其通訊地址為：300350 天津市津南區(qū)咸水沽鎮(zhèn)聚興道11號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。