恭喜ASML荷蘭有限公司文載寅獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于機器學習輔助的光學鄰近效應誤差校正的訓練方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113614638B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080023323.6，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權用于機器學習輔助的光學鄰近效應誤差校正的訓練方法是由文載寅設計研發完成，并于2020-03-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于機器學習輔助的光學鄰近效應誤差校正的訓練方法在說明書摘要公布了：本文描述的是一種確定用于訓練機器學習模型以預測光學鄰近效應校正的代表圖案的方法。所述方法包括：獲得包括一組圖案群組的設計布局，每個圖案群組包括一個或更多個子群組；確定所述一組圖案群組中的一組代表圖案，所述代表圖案是其實例出現于所述一組圖案群組中的子群組；經由使用所述一組代表圖案來模擬光學鄰近效應校正過程，獲得與所述一組代表圖案相關聯的參考光學鄰近效應校正數據；和訓練機器學習模型，以基于所述一組代表圖案和所述一組參考光學鄰近效應校正數據來預測針對所述設計布局的光學鄰近效應校正。
本發明授權用于機器學習輔助的光學鄰近效應誤差校正的訓練方法在權利要求書中公布了：1.一種確定用于訓練機器學習模型以預測光學鄰近效應校正的代表圖案的方法，所述方法包括：獲得包括一組圖案群組的設計布局，每個圖案群組包括一個或更多個子群組；確定所述一組圖案群組中的一組代表圖案，所述代表圖案是圖案的子群組，且所述代表圖案具有出現于所述一組圖案群組中的代表圖案實例；通過使用所述一組代表圖案來模擬光學鄰近效應校正過程，獲得與所述一組代表圖案相關聯的參考光學鄰近效應校正數據；和基于所述一組代表圖案和一組參考光學鄰近效應校正數據來訓練機器學習模型，以預測針對所述設計布局的光學鄰近效應校正。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號