恭喜梅特蘭茲股份有限公司R·C·德夫林獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜梅特蘭茲股份有限公司申請的專利孔隙-超表面和混合折射-超表面成像系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114286953B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080060755.4,技術領域涉及:G02B1/00;該發明授權孔隙-超表面和混合折射-超表面成像系統是由R·C·德夫林;J·格拉夫設計研發完成,并于2020-07-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本孔隙-超表面和混合折射-超表面成像系統在說明書摘要公布了:提供并有常規的光學元件和超表面元件及光源和或檢測器的混合成像系統,及制造以及操作此類光學布置的方法。系統和方法描述在照明源和傳感器中集成孔隙與超表面元件和集成折射光學器件與超表面元件。
本發明授權孔隙-超表面和混合折射-超表面成像系統在權利要求書中公布了:1.一種成像系統,其包括:至少一個圖像傳感器;具有襯底厚度的襯底層,其安置于所述至少一個圖像傳感器上方的第一距離處,所述襯底層被配置成能被光的目標波長透射,所述襯底層具有遠離所述至少一個圖像傳感器的第一表面和靠近所述至少一個圖像傳感器的第二表面;孔隙,其安置在所述襯底的所述第一表面上且具有安置于其中的孔隙開口;間隔層,其在所述襯底層的第二表面與所述至少一個圖像傳感器之間創建氣隙;及超表面,其包括安置在所述第二表面上的多個相同或獨特的納米結構化元件的單層,使得照射在所述孔隙開口上的光穿過所述超表面的至少一部分,使得借此施加指定的角度偏轉;其中所述孔隙與所述超表面之間的距離被由所述襯底厚度確定的第二距離分開;其中所述孔隙和所述超表面被配置成橫跨指定視場收集具有指定的操作帶寬的光,且使入射光移位,使得其以零或接近零度的主光線角聚焦在所述至少一個圖像傳感器上;并且其中所述至少一個圖像傳感器和超表面具有矩形幾何形狀。
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