買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜關(guān)東電化工業(yè)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利包含具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物的干蝕刻氣體組合物和使用其的干蝕刻方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112956002B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：201980070061.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/3065；該發(fā)明授權(quán)包含具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物的干蝕刻氣體組合物和使用其的干蝕刻方法是由清水久志;加藤惟人設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-10-25向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本包含具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物的干蝕刻氣體組合物和使用其的干蝕刻方法在說(shuō)明書摘要公布了：提供：包含含硫不飽和化合物的、對(duì)硅系膜的層疊結(jié)構(gòu)體的蝕刻用途有用的新型蝕刻氣體組合物。一種干蝕刻氣體組合物，其包含用通式1：CxFySz式中，x、y和z為2≤x≤5、y≤2x、1≤z≤2表示的、具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物。

本發(fā)明授權(quán)包含具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物的干蝕刻氣體組合物和使用其的干蝕刻方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種干蝕刻氣體組合物，其包含用通式1：CxFySz表示的、具有不飽和鍵的含硫碳氟化合物，式中，x、y和z為2≤x≤5、y≤2x、1≤z≤2，其中，所述干蝕刻氣體組合物除所述含硫碳氟化合物之外，還包含選自由O2、O3、CO、CO2、NO、NO2、SO2和SO3組成的組中的至少1種含氧化合物，所述含氧化合物的比率相對(duì)于所述通式1所示的化合物與所述含氧化合物的總量為5～80％，所述含硫碳氟化合物為選自 2,2,3,4,5,5-六氟-2,5-二氫噻吩、 三氟乙烯基三氟甲基硫醚、 1,1,2,3,4,5-六氟-1,1-二氫噻吩、 2,3-雙三氟甲基噻丙烯、 3,3,3-三氟-2-三氟甲基-1-丙烯-1-氯化亞砜、 2,2,3,3,4,5-六氟-2,3-二氫噻吩、 2,2,3,4,4-五氟-3-丁烯亞硫酰氟、 2,2,3,3,3-五氟-丙烷亞硫酰氟、 1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙硫酮、 1,3,3,3-四氟-2-三氟甲基-1-丙烯-1-磺酰氟、 1,1,1,3,3,4,4,4-八氟-2-丁硫酮、 2,3,4,5-四氟噻吩中的至少一種。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人關(guān)東電化工業(yè)株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。