恭喜東京毅力科創株式會社森川勝洋獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利基板處理裝置和基板處理方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111755358B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010202728.8,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權基板處理裝置和基板處理方法是由森川勝洋;飽本正巳設計研發完成,并于2020-03-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理裝置和基板處理方法在說明書摘要公布了:效率良好地執行的基板的液處理的基板處理裝置和基板處理方法。基板處理裝置具備:具有基板的輸入輸出口并內裝有第1液處理部和設置于比第1液處理部遠離輸入輸出口的位置的第2液處理部的液處理模塊和相對于液處理模塊輸入輸出基板的輸送裝置。第1液處理部對由第1保持部保持的基板實施第1液處理,第2液處理部在第1液處理之前或之后對由第2保持部保持的基板實施第2液處理。輸送裝置具有可沿第1水平方向進退的基板保持部,使由基板保持部保持的基板沿第1水平方向進退,可將應在第1液處理部和第2液處理部處理的基板經由輸入輸出口向第1液處理部輸入、將在第1液處理部和第2液處理部處理后的基板經由輸入輸出口從第1液處理部輸出。
本發明授權基板處理裝置和基板處理方法在權利要求書中公布了:1.一種基板處理裝置,其具備:液處理模塊,其具有基板的輸入輸出口,并內裝有第1液處理部和設置于比所述第1液處理部遠離所述輸入輸出口的位置的第2液處理部;以及輸送裝置,其相對于所述液處理模塊輸入輸出基板,所述第1液處理部構成為,具有保持基板的第1保持部,并對由所述第1保持部保持著的基板實施第1液處理,所述第2液處理部構成為,具有保持基板的第2保持部,并在所述第1液處理之前或之后對由所述第2保持部保持著的基板實施第2液處理,所述輸送裝置構成為,具有能夠沿著第1水平方向進退的基板保持部,通過使由所述基板保持部保持著的基板沿著第1水平方向進退,能夠將應該在所述第1液處理部和所述第2液處理部處理的基板經由所述輸入輸出口向所述第1液處理部輸入以及能夠將在所述第1液處理部和所述第2液處理部處理后的基板經由所述輸入輸出口從所述第1液處理部輸出,所述液處理模塊還具有:至少1個分隔壁,其使所述第1液處理部內的氣氛與所述第2液處理部內的氣氛相互隔離;開閉器,其使設置于所述分隔壁的開口開閉;以及調換裝置,其經由所述開口在所述第1液處理部與所述第2液處理部之間進行基板的調換。
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