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龍圖騰網恭喜杭州電子科技大學申請的專利一種二三維結構混合的寬帶吸波頻率選擇結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114284743B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111617343.9，技術領域涉及：H01Q15/00；該發明授權一種二三維結構混合的寬帶吸波頻率選擇結構是由俞偉良;羅國清;俞鈺峰;代喜望;張曉紅設計研發完成，并于2021-12-27向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種二三維結構混合的寬帶吸波頻率選擇結構在說明書摘要公布了：本發明公開一種二三維結構混合的寬帶吸波頻率選擇結構。以往的頻率選擇結構中，純二維結構有著吸波頻帶難以展寬的弊病，并且濾波選擇特性不高，而三維結構具有高選擇特性，并且可通過在電磁波傳播方向的空間設置諧振結構，有效拓寬吸波帶，但是三維結構的單元結構相對復雜。本發明將二維結構和三維結構相結合，取長補短，優勢互補，既實現了三維結構的高選擇性和寬帶吸波性能，還利用二維平面結構簡化了整體結構設計，使得結構實現更為簡單，極大地拓展了其應用前景。

本發明授權一種二三維結構混合的寬帶吸波頻率選擇結構在權利要求書中公布了：1.一種二三維結構混合的寬帶吸波頻率選擇結構，包括周期性分布的若干結構單元；其特征在于每個結構單元包括三維有耗結構和二維寬帶帶通頻率選擇表面；所述的三維有耗結構與二維寬帶帶通頻率選擇表面垂直設置，且位于二維寬帶帶通頻率選擇表面的上方；其包括第一介質板、有耗偶極子和有耗層；所述有耗偶極子印制在第一介質板下表面，其包括第一金屬帶狀線和焊接在第一金屬帶狀線中心位置的第一集總電阻；所述有耗層包括印制在第一介質板上表面的等效為串聯LC電路的第二金屬帶狀線和焊接在第二金屬帶狀線上的兩個第二集總電阻、印制在第一介質板下表面的第三金屬帶狀線；所述第二金屬帶狀線和第三金屬帶狀線通過貫通第一介質板的兩個第一金屬化過孔連接；所述第二金屬帶狀線與二維寬帶帶通頻率選擇表面平行設置，其包括加載有交指型電容、以及加載在交指型電容兩側的第二集總電阻；所述第三金屬帶狀線與第一金屬帶狀線不接觸；所述第一金屬帶狀線與二維寬帶帶通頻率選擇表面不接觸；第二金屬帶狀線的兩端接相鄰單元的第二金屬帶狀線；所述第一金屬帶狀線為C型結構，其開口朝向二維寬帶帶通頻率選擇表面；所述的二維寬帶帶通頻率選擇表面包括兩層介質板和三層金屬層，分別為第二介質板、第三介質板，印制在第二介質板上層的第一金屬面、印制在第二介質板下層的第二金屬面和印制在第三介質板下層的第三金屬面；所述第二金屬面的中心開有耦合孔。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人杭州電子科技大學，其通訊地址為：310018 浙江省杭州市下沙高教園區2號大街；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。