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龍圖騰網(wǎng)恭喜拓荊科技股份有限公司申請的專利一種半導體噴淋板中的導流裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115852341B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202211664236.6，技術領域涉及：C23C16/455；該發(fā)明授權(quán)一種半導體噴淋板中的導流裝置是由譚華強;方成;尹艷超設計研發(fā)完成，并于2022-12-23向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種半導體噴淋板中的導流裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種半導體噴淋板中的導流裝置，噴淋板包括側(cè)周密封連接的上蓋板和噴淋面板，噴淋氣體由上蓋板中央的進氣口通入后再由噴淋面板上的多個孔洞噴淋至待加工半導體表面，導流裝置設于上蓋板的進氣口與噴淋面板之間，導流裝置的主體為錐體，底部通過支撐裝置安裝于噴淋面板上，錐體的側(cè)周面自上向下呈向外擴散狀以將進入進氣口的氣體導流至噴淋面板的各處。

本發(fā)明授權(quán)一種半導體噴淋板中的導流裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導體噴淋板中的導流裝置，所述噴淋板包括側(cè)周密封連接的上蓋板和噴淋面板，噴淋氣體由所述上蓋板中央的進氣口通入后再由所述噴淋面板上的多個孔洞噴淋至待加工半導體表面，所述導流裝置設于所述上蓋板的進氣口與所述噴淋面板之間，所述導流裝置的主體為錐體，其底部通過支撐裝置安裝于所述噴淋面板上，所述錐體包括自上向下的上段錐體與下段圓臺，所述下段圓臺的傾角大于所述上段錐體的傾角，所述傾角為所述上段錐體和所述下段圓臺的側(cè)面與所述噴淋板的中軸線之間的夾角，所述錐體的側(cè)周面自上向下呈向外擴散狀以將進入所述進氣口的氣體導流至所述噴淋面板的各處。

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