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龍圖騰網(wǎng)恭喜中玖閃光醫(yī)療科技有限公司申請(qǐng)的專利一種用于高能微焦點(diǎn)X射線的旋轉(zhuǎn)靶獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112333908B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202011319588.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H05G2/00；該發(fā)明授權(quán)一種用于高能微焦點(diǎn)X射線的旋轉(zhuǎn)靶是由劉宇;王建新;肖德鑫;李鵬;胡棟材;周征;吳岱;黎明;楊興繁;王遠(yuǎn);王孝忠;趙劍衡;陳門雪;魯燕華;王漢斌;單李軍;沈旭明;和天慧;徐勇;周奎;勞成龍;羅星;白燕;閆隴剛;鄧德榮;陳立均;劉婕;張德敏;潘清;柏偉;陳亞男;鄧仕鈺;李文君;宋志大;張成鑫;劉清華;李敬;李壽濤;李世根;程云;蒲曉媛;涂國(guó)鋒;蔡哲;陳云斌;力濤;石正軍;羅為;劉春林;張小麗;張冬;余虹;丁玉壽;李雷設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-11-23向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種用于高能微焦點(diǎn)X射線的旋轉(zhuǎn)靶在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明公開一種用于高能微焦點(diǎn)X射線的旋轉(zhuǎn)靶，包括用于分散電子束打靶能量的旋轉(zhuǎn)靶和用于測(cè)量電子束束斑大小的束斑測(cè)量組件，所述旋轉(zhuǎn)靶和束斑測(cè)量組件均可相對(duì)移動(dòng)，使電子束在旋轉(zhuǎn)靶和束斑測(cè)量組件的同一位置上形成的束斑。本申請(qǐng)通過(guò)提供一種可旋轉(zhuǎn)的靶盤，分散電子束轟擊靶盤的能量，通過(guò)在打靶前設(shè)置束斑測(cè)量靶以及移動(dòng)機(jī)構(gòu)，確保打到旋轉(zhuǎn)靶上的電子束束斑分布尺寸可精確測(cè)量與控制，從而實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生高能微焦點(diǎn)X射線的目的。

本發(fā)明授權(quán)一種用于高能微焦點(diǎn)X射線的旋轉(zhuǎn)靶在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于高能微焦點(diǎn)X射線的旋轉(zhuǎn)靶，其特征在于，包括用于分散電子束打靶能量的旋轉(zhuǎn)靶和用于測(cè)量電子束束斑大小的束斑測(cè)量組件，所述旋轉(zhuǎn)靶和束斑測(cè)量組件均可相對(duì)移動(dòng)，使電子束在旋轉(zhuǎn)靶和束斑測(cè)量組件的同一位置上形成的束斑，所述束斑測(cè)量組件包括用于形成束斑的束斑測(cè)量靶、用于測(cè)量束斑大小的測(cè)量組件以及用于限定束斑測(cè)量靶位置的垂直移動(dòng)組件，所述束斑測(cè)量靶和所述測(cè)量組件固定于所述垂直移動(dòng)組件下方，束斑測(cè)量靶和測(cè)量組件的位置相對(duì)固定。

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